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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
主營：貴金屬材料
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人類社會的存在，科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步和發(fā)展，已成為21世紀(jì)首要的戰(zhàn)略儲備物資，且與各國的政治經(jīng)濟(jì)和社會發(fā)展有著息息相關(guān)的緊密聯(lián)系，在已知的傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)和應(yīng)用領(lǐng)域中，高純材料、合金、各種深加工的制品（半成品）及化學(xué)制品，已被廣泛應(yīng)用到冶金鋼鐵，石油化工，有機(jī)化工，酸霧吸收塔廠，化工，電子電器，汽車制造，光學(xué)玻璃，玻璃纖維。
現(xiàn)在行業(yè)中通用的測量方法基本是手動進(jìn)行的，其劣勢在于手動測試受人為因素 (用力的大小，接觸面積等)影響較大，酸霧吸收塔廠家，手動測試無法實(shí)現(xiàn)同一被測物目標(biāo)的多次數(shù)值的重現(xiàn)，手動測試時(shí)只能達(dá)到每次測試出來一個數(shù)值，無法做產(chǎn)品的分析。另外一般的電阻測量儀器受溫度和濕度的影響較大，無法測量，導(dǎo)致不能得出的數(shù)值，從而不能保證廣品的品質(zhì)。
在所有應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出來．而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒，淮南酸霧吸收塔，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。靶材的結(jié)晶粒子直徑和均勻性已被認(rèn)為是影響薄膜沉積率的關(guān)鍵因素。另外，薄膜的純度與靶材的純度關(guān)系極大，過99.995%（4N5）純度的銅靶，或許能夠滿足半導(dǎo)體廠商0.35pm工藝的需求，但是卻無法滿足如今0.25um的工藝要求。
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第9年
