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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
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在所有應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出來．而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。靶材的結(jié)晶粒子直徑和均勻性已被認(rèn)為是影響薄膜沉積率的關(guān)鍵因素。另外，薄膜的純度與靶材的純度關(guān)系極大，過99.995%（4N5）純度的銅靶，或許能夠滿足半導(dǎo)體廠商0.35pm工藝的需求，但是卻無法滿足如今0.25um的工藝要求。
各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，銀圓柱靶廠，有的已經(jīng)用于電腦及計算機(jī)的顯示器制造；在信息存儲產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。
中國的工業(yè)，由于長期處于計劃經(jīng)濟(jì)體制內(nèi)，發(fā)展比較緩慢，對于金銀而言，銀圓柱靶報價，可以說是歷史悠久，銀圓柱靶價格，源遠(yuǎn)流長了，但在改革開放前，湖南銀圓柱靶，沒有納入國家計劃渠道的，直至2002年10月30日上海黃金正式開業(yè)，才宣告了計劃經(jīng)濟(jì)時金銀管理條例的失效，而鉑族金屬工業(yè)更是起步晚、技術(shù)落后，直到改革開放以后，才有了突飛猛進(jìn)的發(fā)展，但與國際上的國家相比較，依然是落在人家后面，因此在中國無論是的投資儲備需求，還是實際的應(yīng)用需求。
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