相比MoO3,加入鉬質量濃度相同的Na2MoO4所得膜層耐蝕性更佳,輕金屬微弧氧化廠家,在添加0.42g/L Na2MoO4時制得膜層其腐蝕電流密度比無添加劑時的低約7倍,比基體的低約1個數(shù)量級。故加入Na2MoO4的價比更高。
此外,輕金屬微弧氧化公司,這2種添加劑的加入,輕金屬微弧氧化,均可在AZ91D鎂合金表面制得淺棕色的膜層,輕金屬微弧氧化設備,起顯色作用的物質是MoO2。
微弧氧化材料表面陶瓷化機理
微弧氧化是一種在高電壓、大電流下對金屬材料進行表面處理的技術。由于采用了較高的電壓(大于250 V),在微弧氧化處理過程中,可在樣品材料表面觀察到光斑(弧光)現(xiàn)象。光斑十分細小,密度很大,且無固定位置。這種細小的光斑意味著在樣品材料表面形成了大量的等離子體微區(qū),在微區(qū)內(nèi)瞬間溫度可達2500℃以上,壓力可達數(shù)百個大氣壓,為上面提到的一系列化學、物理反應的進行創(chuàng)造了條件。利用這一環(huán)境可在材料表面生成具有一定厚度、致密的陶瓷氧化層,可用來改善材料自身的防腐、耐磨和電絕緣等特性。
什么是微弧氧化?微弧氧化膜層生長過程是怎樣的?
微弧氧化技術(MAO)是在陽極氧化基礎上發(fā)展起來的一項新技術,是在含有特定離子的電解液中,通過弧光放電處理和電化學氧化的共同作用,在鋁、鎂、鈦等有色金屬及其合金材料表面原位產(chǎn)生一層與基體結合良好的陶瓷層的表面處理技術,膜層具有耐蝕性能高、硬度高、耐磨性能好、高阻抗、絕熱性能好等特點。
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