PLC在中頻透熱爐設備中的應用
可編程邏輯控制器,一種數(shù)字運算操作的電子系統(tǒng),為在工業(yè)環(huán)境應用而設計的。它采用一類可編程的存儲器,用于其內部存儲程序,執(zhí)行邏輯運算,順序控制,定時,計數(shù)與算術操作等面向用戶的指令,并通過數(shù)字或模擬式輸入/輸出控制各種類型的機械或過程。是工業(yè)控制的部分。
傳統(tǒng)的熱處理行業(yè)有著環(huán)境惡劣,勞動強度大,工藝不易控制,效率低等缺點。采用感應加熱方式后,環(huán)境,工藝控制方面有了較大改善。為了進一步降低勞動強度,提,洛陽紅騰電氣有限公司,針對中頻透熱爐專門設計了自動上料系統(tǒng),同時配合PLC可編程控制器,對各節(jié)點進行控制,從而使得鍛造、淬火工藝得到有效控制,實現(xiàn)高度自動化控制。該設備具有如下特點:
1、進出料部分為全自動,并搭配PLC控制,機器人自動操作上下料,可以完成產品的重量殘次自動分檢,實現(xiàn)全自動無人值守操作;
2、 一體化的設計減少安裝時間,費用低廉;
3、 進出料系統(tǒng)和透熱爐體單元結合在一起,占地面積小。
中頻電爐的幾種冷卻方法
生產實踐中應用廣泛的淬火分類是以冷卻方式的不同劃分的。主要有單液淬火、雙液淬火、分級淬火和等溫淬火等。
單液淬火是將奧氏體化工件浸入某一種淬火介質種,一直冷卻到室溫的淬火操作方法。單液淬火介質有水、鹽水、堿水、油及專門配制的淬火劑等。一般情況下碳素鋼淬火,合金鋼淬油。 單液淬火操作簡單,有利于實現(xiàn)機械化和自動化。其缺點是冷速受介質冷卻特性的限制而影響淬火質量。單液淬火對碳素鋼而言只適用于形狀較簡單的工件。
雙液淬火是將奧氏體化工件先浸入一種冷卻能力強的介質,在鋼件還未達到該淬火介質溫度之間即取出,馬上浸入另一種冷卻能力弱的介質中冷卻,如先水后油、先水后空氣等。雙液淬火減少變形和開裂傾向,操作不好掌握,在應用方面有一定的局限性。
IGBT中頻透熱爐維修方法主講
1、燒IGBT中頻透熱爐逆變KK硅的原因及維修措施:
主要測試點:大臂波,脈變原副邊波,中頻輸出波,反饋合成波。
1.1原因:以數(shù)設置不當。
逆變角調得太大,di/dt沖擊大,此現(xiàn)象一般了現(xiàn)在設備運行一段時間,爐料已發(fā)紅或快出鋼水時刻。發(fā)果逆變角很大(如接近900C也可能一開始就燒KK硅。)措施:a角調在30 0C—40 0C之間,Z大不得超過42 0C。注:換向點不能出一在輸出波形的頂點或左邊,否則一開機就燒硅。
1.2原因:橋臂電感太小或飲和(相對磁環(huán)而言),吸收太淺,軸類中頻透熱爐優(yōu)點,換同毛刺太深,使硅元件因耐壓不夠或di/dt太大而燒硅,此燒硅現(xiàn)象一般發(fā)生在鋼水快出爐的時候或整爐爐料已熔化后某一時刻,或功率較大的情況下。措施:適當增大橋臂電感的電感量,如果原來為磁環(huán),則將其換成銅管繞制的空心電感,加強吸收,使反峰毛刺控制在3/2基波幅值內。
1.3原因:脈變內阻太大,產生干擾。
此現(xiàn)象一般表現(xiàn)為運行中隨機燒硅。如果硅元件在運行過程中被干擾,其控制極脈沖波形中有隨機閃電狀干擾,干擾點很亮,幅值可達到2/3脈沖幅底(有時可能與正常脈沖幅值相當,且較難觀察到),大臂波中也同步出現(xiàn)某個波抖動,或瞬間出現(xiàn)短粗橫線,但脈變一次是側的波形較正常措施:先用低內阻脈沖變壓器,在輸出0.047-O.luf電容。
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