中國的貴金屬工業(yè)由于較長時期處于國家計劃經(jīng)濟(jì)體制,因此發(fā)展比較緩慢,特別是鉑族金屬起步更是比較晚,工藝技術(shù)比較落后,國內(nèi)資源更是匱乏,直到改革開放以后,以上海黃金的開業(yè)為標(biāo)志,在這三十年里,才得到了迅速的發(fā)展,出現(xiàn)了現(xiàn)貨、紙黃金、紙白銀等等的交易模式,金圓柱靶,為投資者開打了通往財富的大門,更多的開辟了就業(yè)渠道,同時鉑族金屬的生產(chǎn)加工企業(yè)和流通領(lǐng)域的企業(yè)也似雨后春筍,蓬勃發(fā)展,使中國成為很大的的鉑族金屬進(jìn)口和消費(fèi)國。
濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物(氧化物)含量與尺寸、導(dǎo)磁率、超高密度與超細(xì)晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的物相鍍膜方式,就是用電子系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬,合金,金圓柱靶報價,陶瓷化合物等。
而未米的0.18um}藝甚至0.13m工藝,所需要的靶材純度將要求達(dá)到5甚至6N以上。銅與鋁相比較,哪家有金圓柱靶,銅具有更高的抗電遷移能力及更低的電阻率,能夠滿足!導(dǎo)體工藝在0.25um以下的亞微米布線的需要但卻帶米了其他的問題:銅與有機(jī)介質(zhì)材料的附著強(qiáng)度低.并且容易發(fā)生反應(yīng),導(dǎo)致在使用過程中芯片的銅互連線被腐蝕而斷路。
為了解決以上這些問題,需要在銅與介質(zhì)層之間設(shè)置阻擋層。阻擋層材料一般采用高熔點、高電阻率的金屬及其化合物,因此要求阻擋層厚度小于50nm,與銅及介質(zhì)材料的附著性能良好。銅互連和鋁互連的阻擋層材料是不同的.需要研制新的靶材材料。銅互連的阻擋層用靶材包括Ta、W、TaSi、WSi等.但是Ta、W都是難熔金屬.制作相對困難,如今正在研究鉬、鉻等的臺金作為替代材料。
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