微弧氧化技術就是通過電源和溶液配方,讓鋁、鎂、鈦合金上生長出一層陶瓷膜層,從而擁有陶瓷的很多性能,鎂合金微弧氧化表面要求,如耐腐蝕、耐磨損、耐高壓、環(huán)保。在手機中框,筆記本殼體,飛機的某些零部件,鎂合金微弧氧化,鎂合金器材等領域具有廣泛的應用價值。
微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術、鋁合金微弧氧化、鎂合金微弧氧化、鈦合金微弧氧化。
微弧氧化技術的發(fā)展
微弧氧化技術是北京師范大學核科學與技術學院(低能核物理研究所)(北京市輻射中心)1992年起開發(fā)的科研課題,先后得到國家教委、國家九五863高技術研究發(fā)展計劃、國家自然科學基jin的大力支持。1997-1998年完成國家“863”計劃項目“等離子體微弧氧化表面改性技術”,1997年12月“鋁合金微弧氧化技術”通過國家教委和863組的聯合鑒定。2002年微弧氧化設備獲得國家重點新產品證書,2004年微弧氧化雙極性大功率脈沖電源獲得發(fā)明。
與普通的陽極氧化膜相比,鋁 鎂合金微弧氧化設備, 微弧氧化膜的空隙小,空隙率低,與基質結合緊密, 且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技術生成的膜層綜合性能優(yōu)良,與基體結合牢固, 且工藝簡單,對環(huán)境污染小, 目前對其生長規(guī)律、生長機理和影響因素等已經有了較為深入的研究, 在工業(yè)上得到了一定的應用, 是一種具有發(fā)展?jié)摿Φ逆V合金表面處理技術。微弧氧化技術在現代工業(yè)中應用匯越來越廣泛。
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