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日照微弧技術(shù)有限公司

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微弧氧化技術(shù)服務(wù)-日照微弧氧化電源-微弧氧化技術(shù)

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微弧氧化技術(shù)特點(diǎn)

（1）氧化膜具有陶瓷結(jié)構(gòu)特征。

（2）原位生長(zhǎng)。

（3）氧化膜均勻增厚。

（4）無(wú)污染：無(wú)環(huán)保限制元素加入，基本無(wú)廢水排放。

制備工藝簡(jiǎn)單。

（5）表面硬度高，顯微硬度在400至1500HV；

（6）耐磨損性能與硬質(zhì)合金相當(dāng)；

（7）耐腐蝕性能：鹽霧試驗(yàn)鋁合金1000－2000小時(shí) ；鎂

合金經(jīng)封孔后耐鹽霧可達(dá)1000小時(shí)以上。

（8）耐熱性能：300℃水中淬火35次未見(jiàn)變化，微弧氧化技術(shù)服務(wù)，1300℃

沖擊5次不脫落、不龜裂。

（9）絕緣性能：膜厚不同，表面電阻達(dá)  109－12Ω

陽(yáng)極氧化膜層與微弧氧化膜層的區(qū)別是什么？

由微弧氧化膜層的生長(zhǎng)機(jī)理可知，陽(yáng)極氧化是微弧氧化的初級(jí)階段。陽(yáng)極氧化發(fā)生的是化學(xué)反應(yīng)，而微弧氧化除化學(xué)反應(yīng)外，還伴隨有電化學(xué)、高溫等離子體等反應(yīng)。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過(guò)3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結(jié)合，因此與基體結(jié)合良好。另外，鈦合金微弧氧化技術(shù)，膜層為氧化物瞬間冷凝形成，PEO技術(shù)微弧氧化，具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能，微弧氧化技術(shù)，良好的絕緣性等。但歸跟到底，微弧氧化膜層與陽(yáng)極氧化膜層醉的的差別在于：膜與基體的結(jié)合力，膜層內(nèi)部致密性及相結(jié)構(gòu)。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽(yáng)極氧化膜層其它方面的性能差異。

微弧氧化的起源

微弧氧化(MAO)是一種在輕金屬表面原位生長(zhǎng)陶瓷氧化膜的新技術(shù)。美國(guó)五十年代在某些兵工廠開(kāi)始研究陽(yáng)極火花沉積，前蘇聯(lián)從七十年代中期開(kāi)始獨(dú)立研究微弧氧化且具較高水平，八十年代中、后期以來(lái)微弧氧化研究已成為國(guó)際研究熱點(diǎn)并開(kāi)始應(yīng)用，九十年代初國(guó)內(nèi)開(kāi)始起步。微弧氧化在航空、航天、機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用前景。

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