微弧氧化的起源
微弧氧化(MAO)是一種在輕金屬表面原位生長陶瓷氧化膜的新技術。美國五十年代在某些兵工廠開始研究陽極火花沉積,鋁 鎂合金微弧氧化設備,前蘇聯(lián)從七十年代中期開始獨立研究微弧氧化且具較高水平,八十年代中、后期以來微弧氧化研究已成為國際研究熱點并開始應用,九十年代初國內開始起步。微弧氧化在航空、航天、機械、電子、裝飾等領域有廣泛應用前景。
微弧氧化技術優(yōu)勢
1、采用堿性電解液,對環(huán)境污染小。
2、工藝流程簡單,鎂合金微弧氧化加工廠,前處理工序少,適于大規(guī)模自動化生產。
3、允許溫度變化范圍寬,電解液允許的溫度范圍一般為10-70℃。
4、處理能力強。工件的形狀可較復雜,且可處理部分內表面,鎂合金微弧氧化,對異形零件、孔洞、焊縫的可加工能力遠遠高于其他表面陶瓷化工藝。且對工件的修補和重復加工能力投強。
5、電源模式一般采用交流或脈沖方式,這種方式具有較高能量,且生成的陶瓷膜性能比直流電源的高。
微弧氧化的發(fā)展方向
在工業(yè)應用的范圍內,微弧氧化氧化工藝在下面幾個方向的發(fā)展是值得關注的:
①標準電解質的商業(yè)化及各種型號與系列電源的深化,并且通過復配電解質而擴展閥金屬的范圍,從而使微弧氧化的應用范圍擴大;
②通過神經網絡及相應的質量控制模型對微弧氧化工藝進行優(yōu)化,工藝的改進(比如鼓入氣泡以及超聲波震動);
③ 微弧氧化與其它技術的復合應用。微弧氧化電源
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