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主營：等離子拋光設(shè)備,等離子拋光機,等離子電漿拋光設(shè)備
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| 先生： |
首先是適合6種以上金屬材質(zhì)拋光傳統(tǒng)的設(shè)備只能拋光不銹鋼材質(zhì)產(chǎn)品，但是如今，不僅僅可以拋光不銹鋼產(chǎn)品，還可以拋光銅，鎂合金，鋅合金，不銹鐵，鋁合金，鈦合金，金銀等金屬材質(zhì)產(chǎn)品。一臺設(shè)備就可以完成多種材質(zhì)產(chǎn)品的拋光處理。為企業(yè)省下了高昂的購機成本。其次是8大優(yōu)勢技術(shù)突破后的等離子拋光設(shè)備效率極高。傳統(tǒng)人工拋光的方式對于小五金件，一個熟手一天也難處理好100件，但是，本設(shè)備一分鐘即可拋光100多件產(chǎn)品。并且拋光效果鏡面高亮精度可達0.002mm，粗糙度(RMS)可達0.01微米優(yōu)勢二、生產(chǎn)效率100件/分鐘優(yōu)勢。低耗電70度/小時優(yōu)勢四、一機多用可拋光：鋅合金，鎂合金，黃銅，不銹鋼，金銀等材質(zhì)產(chǎn)品
在高溫超高電流的作用下，電解質(zhì)水產(chǎn)生電離子，分離化學液態(tài)電漿，利用電解質(zhì)水溶和高溫、高壓的配合產(chǎn)生等離子，等離子與工件的表面摩擦而產(chǎn)生拋光的效果。等離子拋光的過程中涉及到化學變化，其材料去除機理主要表現(xiàn)在材料的化學去除過程，其原理為反應(yīng)等離子在放電過程中產(chǎn)生許多離子和化學活物質(zhì)，這些中性物質(zhì)稱其為自由基，與原來的氣體分子相比，這些自由基是活躍的刻溶劑。等離子體的材料去除機理不僅僅包括化學反應(yīng)的去除原理，還包含物理方法的去除原理，但主要的還是氣相化學反應(yīng)去除原理。
航空航天領(lǐng)域?qū)α悴考谋砻尜|(zhì)量和性能要求極高，傳統(tǒng)的表面處理技術(shù)已經(jīng)不能滿足需求。拋光設(shè)備作為一種、、無污染的表面處理技術(shù)，可以用于航空航天零部件的表面拋光、去除氧化物和去除殘留物等方面，具有重要的應(yīng)用前景。拋光設(shè)備可以有效地提高零部件的表面質(zhì)量和性能，減少零部件的疲勞壽命，提高航空航天產(chǎn)品的可靠性和安全性。
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第7年
