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主營：等離子拋光設(shè)備,等離子拋光機,等離子電漿拋光設(shè)備
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| 先生： |
拋光液的溫度越低，材料的去除速度越快。低溫條件下材料的去除速度快主要是因為:溫度越低，拋光液被蒸發(fā)需要吸收的熱量就越多，相同條件下生成的氣體越少，包圍在零件周圍的混合氣體層越薄，而在壓強和電壓不變的情況下，氣體變薄就意味著電場強度增大，導致碰撞電離系數(shù)顯著增大，雖然總的碰撞距離減小，但仍然有更多的電子沖擊到工件表面，材料的去除速度當然更快。但在拋光液低溫情況下，混合氣體層較薄，也意味著氣體層不太穩(wěn)定，等離子拋光過程中斷并轉(zhuǎn)變一般電解的的可能性越大，同時氣體層薄也意味著系統(tǒng)的電阻減小，電流增大，且電流值大幅度變化，常常引起零件尖銳部位燒蝕等現(xiàn)象，這對復雜形狀零件和大尺寸零件來說特別明顯。
拋光設(shè)備的部件是等離子體源，它的參數(shù)設(shè)置會直接影響拋光的效果。例如，功率密度的變化會導致等離子體源的溫度變化，從而影響等離子體中的粒子濃度和能量分布。因此，在操作拋光設(shè)備時，需要關(guān)注等離子體源的參數(shù)設(shè)置，確保其穩(wěn)定性和可靠性，以獲得高質(zhì)量的拋光效果。拋光設(shè)備中的氣體流量對拋光質(zhì)量也有很大的影響。氣體流量的不足或過多都會影響等離子體的穩(wěn)定性和拋光效果。因此，在操作拋光設(shè)備時，需要根據(jù)不同的拋光材料和工藝參數(shù)調(diào)整氣體流量，以達到的拋光效果。
金屬表面電解質(zhì)等離子拋光利用氣液等離子體發(fā)生技術(shù)，將工件置于拋光液中，施加一定的電壓，使工件周圍的拋光液汽化，形成一個包裹工件的氣層，通過在氣層的不同位置形成放電通道，將表面材料微觀凸起地去除，實現(xiàn)對金屬工件表面拋光。在該拋光體系下電極(拋光工件)、放電介質(zhì)、氣層和拋光液等離子層五相共同作用，主要通過放電去除表面材料，該技術(shù)不僅能解決傳統(tǒng)機械拋光方法達到的死角位的問題，特別對形狀復雜的工件達到很好的拋光效果。拋光后的產(chǎn)品無需除油、除蠟。只需水洗，烘干即可。
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第7年
