耗材
硅片
硅片沒有特殊要求,單面拋光即可。制備SU8模具時在硅片拋光旋涂光刻膠。
光刻掩膜板
光刻掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡稱掩膜版,是制備SU8模具光刻工藝所使用的圖形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微結(jié)構(gòu)掩膜圖形,桌面光刻機怎么樣,通過曝光過程將微結(jié)構(gòu)圖形信息轉(zhuǎn)移到SU8光刻膠涂層上,桌面光刻機企業(yè),實現(xiàn)微結(jié)構(gòu)的jing確復zhi。光刻掩膜版,一般可分為菲林掩膜版和玻璃掩膜版兩種。
光刻膠SU-8是一種常用的負性光刻膠,通常由環(huán)氧樹脂和光敏劑組成,它具有許多優(yōu)點,使其在制備微結(jié)構(gòu)和器件方面成為理想的選擇:
高分辨率:SU-8光刻膠具有出色的分辨率,可以制備細致的微結(jié)構(gòu),適合制作小尺寸線條和微細圖案。
粘附性強:SU-8光刻膠在許多基片表面具有良好的粘附性,可以在不同材料上制備微結(jié)構(gòu)。
厚度可調(diào):SU-8光刻膠可以通過多次涂覆和光刻來控制厚度,適用于制備不同厚度的微結(jié)構(gòu)。
化學穩(wěn)定性:SU-8光刻膠具有較高的化學穩(wěn)定性,可以耐受許多溶劑和化學物質(zhì),適用于各種應用環(huán)境。
熱穩(wěn)定性:SU-8光刻膠在高溫下具有較好的穩(wěn)定性,適用于需要高溫處理的制備過程。
多層光刻:SU-8光刻膠可用于多層光刻制備,桌面光刻機公司,能夠?qū)崿F(xiàn)更復雜的微結(jié)構(gòu)和器件。
應用廣泛:SU-8光刻膠在微流體器件、生物芯片、MEMS、光學器件等多個領域中得到廣泛應用。
頂旭(蘇州)微控技術(shù)有限公司是一家專注于微流控領域的高科技企業(yè)。提供豐富多樣的微流控芯片加工設備,涵蓋SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以幫助客戶在自己的實驗室內(nèi)進行微流控芯片的快速制作,從而提高實驗效率和靈活性。
熱板
溫度:0~300℃溫度穩(wěn)定性:±1℃功率:850W臺面大?。?00x200mm
公司團隊擁有豐富的經(jīng)驗和技術(shù)積累,持續(xù)將專ye知識與創(chuàng)新思維相結(jié)合,為客戶提供高品pin質(zhì)的解決方案。我們將始終堅持以客戶為中心,上海桌面光刻機,不斷挑戰(zhàn)自我,不斷追求卓yue,通過專ye、創(chuàng)新和合作,為客戶創(chuàng)造更大的價值,共同kai創(chuàng)微流控領域的美好未來。
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