汽車(chē)空調(diào)檢漏系統(tǒng)

氦質(zhì)譜檢漏儀光無(wú)源器件檢漏

光無(wú)源器件是不含光能源的光能器件的總稱(chēng)。光無(wú)源器件在光路中都要消耗能量，插入損耗是其主要性能指標(biāo)。光無(wú)源器件有光纖連接器、光開(kāi)關(guān)、光衰減器、光纖耦合器、波分復(fù)用器、光調(diào)制器、光濾波器、光隔離器、光環(huán)行器等。它們?cè)诠饴分蟹謩e實(shí)現(xiàn)連接、能量衰減、反向隔離、分路或合路、信號(hào)調(diào)制、濾波等功能。本文主要介紹氦質(zhì)譜檢漏儀在無(wú)源器件中的檢漏應(yīng)用。

光無(wú)源器件是不含光能源的光功能器件的總稱(chēng)。光無(wú)源器件在光路中都要消耗能量，插入損耗是其主要性能指標(biāo)。光無(wú)源器件有光纖連接器、光開(kāi)關(guān)、光衰減器、光纖耦合器、波分復(fù)用器、光調(diào)制器、光濾波器、光隔離器、光環(huán)行器等。它們?cè)诠饴分蟹謩e實(shí)現(xiàn)連接、能量衰減、反向隔離、分路或合路、信號(hào)調(diào)制、濾波等功能。本文主要介紹氦質(zhì)譜檢漏儀在無(wú)源器件中的檢漏應(yīng)用。

無(wú)源器件檢漏原因：光無(wú)源器件是光纖通信設(shè)備的重要組成部分，也是其它光纖應(yīng)用領(lǐng)域不可缺少的元器件。具有高回波損耗、低插入損耗、高可靠性等特點(diǎn)。光無(wú)源器件對(duì)密封性的要求極高，如果存在泄漏會(huì)影響其使用性能和精度，光通信行業(yè)的漏率標(biāo)準(zhǔn)是小于 5×10-8  mbar.l/s，因此需要進(jìn)行泄漏檢測(cè)。氦質(zhì)譜檢漏法利用氦氣作為示蹤氣體可準(zhǔn)確定位，定量漏點(diǎn)，替代傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏，目前已廣泛應(yīng)用于光無(wú)源器件的檢漏。

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氦氣檢漏設(shè)備的三種常見(jiàn)方法

一、負(fù)壓法

負(fù)壓法是一種常見(jiàn)而方便的檢漏方法。當(dāng)進(jìn)行氦氣檢漏時(shí)，氦被連接到充滿(mǎn)氦氣的瓶子中，汽車(chē)空調(diào)檢漏系統(tǒng)，并且使用噴將氦噴射到泄漏部分。如果氦氣從泄漏孔流入壓力容器裝置，裝置中氦氣的分壓將上升，泄漏率將顯示在氦氣檢漏設(shè)備上。它是否合格取決于標(biāo)準(zhǔn)泄漏率。如果超過(guò)標(biāo)準(zhǔn)泄漏率，將被視為不合格。

二、正壓法

正壓方法是首先用一種以上的大氣壓氦氣或氦氣的混合氣體填充壓力容器裝置。在壓力容器裝置的外部檢測(cè)中，泄漏孔泄漏到外部氦氣中，然后找到泄漏孔。當(dāng)用抽吸搜索氦氣時(shí)，一旦氦氣被吸入，氦氣檢漏設(shè)備將顯示泄漏率值。在這種情況下，由于壓力容器裝置的外部是一個(gè)大氣壓，充入壓力容器裝置的氣壓需要至少一個(gè)大氣壓或更多個(gè)大氣壓。然而，壓力不應(yīng)太高。如果壓力過(guò)高，插入設(shè)備的壓力表或其他插件會(huì)彈出，造成傷害和其他危險(xiǎn)事故。

三、氦罩法

在這種方法中，用塑料薄膜包裹被測(cè)容器，首先除去罩子中的空氣，然后充入氦氣或氦氣混合氣體，檢漏儀與被測(cè)容器的內(nèi)部連接，當(dāng)檢漏儀顯示泄漏率時(shí)，指示泄漏。這個(gè)泄漏率稱(chēng)為總泄漏率。總泄漏率是所有泄漏率的總和。如果總泄漏率不超過(guò)標(biāo)準(zhǔn)值，則每個(gè)泄漏率不超過(guò)標(biāo)準(zhǔn)值；如果總泄漏率超過(guò)標(biāo)準(zhǔn)值，檢查每個(gè)點(diǎn)的泄漏率是否超過(guò)標(biāo)準(zhǔn)值。然后調(diào)整修改超過(guò)標(biāo)準(zhǔn)值的泄漏孔，直至達(dá)到合格標(biāo)準(zhǔn)。

氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項(xiàng)

檢漏儀的響應(yīng)時(shí)間會(huì)影響檢漏工作的速度，正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間不大于3s。筆者實(shí)測(cè)時(shí)，在漏點(diǎn)處噴射氦氣5～10s后，檢漏儀就發(fā)生響應(yīng)，對(duì)于如此龐大的真空系統(tǒng)，其反應(yīng)是相當(dāng)?shù)撵`敏。

檢漏時(shí)噴在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍，該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間，即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間，當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大，該間隔時(shí)間也越長(zhǎng)。筆者根據(jù)實(shí)測(cè)經(jīng)驗(yàn)，兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s左右，即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒(méi)有反應(yīng)，則可進(jìn)行第二次噴氦。

清除時(shí)間在理論上與響應(yīng)時(shí)間相同，但由于儀器零件對(duì)氦的吸附和脫附作用的影響，清除時(shí)間一般要更長(zhǎng)些。筆者測(cè)算，在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-9P a ?m3/s的微漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須1分鐘；在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-8P a ? m3/s的中漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須2分鐘；在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-7Pa?m3/s的大漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間在3分鐘左右。

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