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日照微弧技術(shù)有限公司

主營：微弧氧化,微弧氧化技術(shù),微弧氧化電源,微弧氧化廠家

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鎂合金微弧氧化生產(chǎn)線-微弧氧化生產(chǎn)線-日照微弧氧化生產(chǎn)線

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微弧氧化抹的特點(diǎn)

       微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高，微弧氧化生產(chǎn)線，耐蝕性強(qiáng)，鎂合金微弧氧化生產(chǎn)線，絕緣性好，膜層與基底金屬結(jié)合力強(qiáng)，并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化的合適放電區(qū)間較窄，要求對(duì)放電后的電參數(shù)控制比較好，大電流、高電壓對(duì)供電電源提出了高要求，由于對(duì)微弧氧化本質(zhì)認(rèn)識(shí)限制，使得電源的設(shè)計(jì)及制造仍停留在經(jīng)驗(yàn)摸索層面上，微弧氧化生產(chǎn)線優(yōu)勢，帶有很大的盲目性。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

微弧氧化技術(shù)特點(diǎn)

1、提高材料表面硬度微弧氧化膜層為表面多孔（孔徑為幾微米）、內(nèi)部致密的陶瓷層。 膜層硬度高（維氏硬度可由幾百至三千左右） 膜層與基體為冶金結(jié)合、厚度在幾微米至幾百微米之間。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線

2、微弧氧化技術(shù)絕緣性好耐熱性高，可承受高溫使用，范圍根據(jù)基材熔點(diǎn)溫度 有良好的絕緣性能，絕緣電阻膜阻>100MΩ 絕緣耐壓>5000V/秒。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)工藝

溫度對(duì)微弧氧化的影響

       微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會(huì)形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。所以微弧氧化過程中一定要控制好溫度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源

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