這些干擾要有效識別和消除 ICP-MS 質(zhì)譜儀中的干擾,可以采取以下一些方法
干擾校正方程:通過建立干擾校正方程,利用已知的干擾元素和目標(biāo)元素的關(guān)系,對干擾進(jìn)行校正。
內(nèi)標(biāo)法:使用內(nèi)標(biāo)元素來監(jiān)測和校正信號的變化,以補(bǔ)償基體效應(yīng)和其他干擾。
碰撞/反應(yīng)池技術(shù):利用碰撞/反應(yīng)池來去除或降低多原子離子、分子離子等干擾。
選擇合適的質(zhì)量數(shù):避免選擇受到嚴(yán)重干擾的質(zhì)量數(shù),或者采用高分辨率質(zhì)譜儀來區(qū)分干擾和目標(biāo)離子。
優(yōu)化儀器參數(shù):調(diào)整射頻功率、離子源氣體流量等參數(shù),以減少干擾的影響。
樣品前處理:適當(dāng)?shù)臉悠非疤幚矸椒梢匀コ蓴_物質(zhì),如稀釋、萃取、凈化等。
同位素比值測量:通過測量同位素比值,可以消除一些干擾的影響,并提供的分析結(jié)果。
質(zhì)量篩選:利用質(zhì)量篩選技術(shù),只監(jiān)測特定質(zhì)量數(shù)范圍內(nèi)的離子,減少干擾的干擾。
數(shù)據(jù)處理方法:采用合適的數(shù)據(jù)處理軟件和算法,如背景扣除、平滑、校正等,遼寧ICP-MS質(zhì)譜儀,來校正干擾。
標(biāo)準(zhǔn)加入法:通過添加已知濃度的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)到樣品中,校正基體效應(yīng)和干擾。
識別和消除干擾需要綜合考慮多種方法,并根據(jù)具體的分析需求和樣品特點(diǎn)選擇合適的策略。同時(shí),ICP-MS質(zhì)譜儀價(jià)格,定期進(jìn)行質(zhì)量控制和方法驗(yàn)證也是確保干擾得到有效校正的重要步驟。
ICP-MS分析流程的建立
對于一種新基體的樣品來說,常規(guī)的分析路徑如下:
1. 酸化或溶解樣品
樣品一般需要行酸化溶解使目標(biāo)元素溶解在液體中.
2. 選擇目標(biāo)分析物和目標(biāo)同位素
根據(jù)濃度范圍來選擇分析物和同位素。
3. 行掃描以便識別出存在的干擾
可以行半定量掃描,可以通過半定量掃描判斷大致存在哪些元素以及各個(gè)元素 的大致濃度范圍。
4. 選擇數(shù)據(jù)的采集模式以及校正曲線的類型
一般如果使用連續(xù)流的數(shù)據(jù)采集模式,ICP-MS質(zhì)譜儀價(jià)格,會(huì)使用外標(biāo)定量法。也有其他的數(shù)據(jù)評估方
法可以使用。
5. 選擇合適的內(nèi)標(biāo)元素
內(nèi)標(biāo)元素的使用可以校正由于時(shí)間或基體抑制效應(yīng)引起的信號漂移。
6. 能進(jìn)行基體匹配
將標(biāo)樣的基體匹配到和您的樣品基體完全一致,可以將兩者之間的差異減小到小, 并且有助于得到更為準(zhǔn)確的結(jié)果數(shù)據(jù)。
7. 進(jìn)行質(zhì)量控制校正(QC check)
在分析過程中插入另一來源的標(biāo)樣(2nd Source Standard)或者有證標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) (Certified Reference Material),確保數(shù)據(jù)的完整性。
ICP-MS測定純鋅中的微量元素
電感耦合等離子體質(zhì)譜法是檢測復(fù)雜體系中微量和痕量元素的一種分析技術(shù),具有靈敏度高、檢測限低、
精密度好、線性范圍寬及多元素同時(shí)測定等特性。本文主要研究了 ICP-MS法測定純鋅樣品中鐵、銅、鎘、
銻、鉛、錫等微量元素。本采用溶解樣品,定容分析,ICP-MS質(zhì)譜儀廠家,本方法具有樣品處理簡單,容易操作, 測定準(zhǔn)確度高,精密度好,檢出限低等優(yōu)點(diǎn)。
鋅因?yàn)榫哂袃?yōu)良的抗大氣腐蝕性能,所以被主要用于鋼材和鋼結(jié)構(gòu)件的表面鍍層(如鍍鋅板),廣泛用于汽車、 建筑、船舶、輕工等行業(yè),純鋅有較好的機(jī)械性能和耐蝕性能,可以加工成板材、箔材、線材形式用于印刷、機(jī)械、
化工、電池、儀表等工業(yè)部門,可配制合金、作合金元素等。純度為98.7%?99.99%的鋅,常含有鉛、鐵、鎘、銅、 、銻、錫等雜質(zhì),而錫、等為有害雜質(zhì)。隨著材料科學(xué)對純鋅的純凈度越來越高的要求,使材料的痕量分析
領(lǐng)域面臨新的挑戰(zhàn)。其中越來越多的元素,包括一些并不典型且含量極低的元素,必須采用高靈敏度的檢測方法, 才能對其含量提供準(zhǔn)確可靠的數(shù)據(jù)。ICP-MS分析技術(shù)是分析痕量元素有力的技術(shù),該技術(shù)具有譜圖簡單,檢出限低、 線性動(dòng)態(tài)范圍寬、快速的多元素分析等特點(diǎn)。但在分析鋼鐵、鋅合金等復(fù)雜樣品時(shí),由于大量基體的存在以及由
于引入溶劑而產(chǎn)生的大量多原子離子干擾,使ICP-MS的應(yīng)用受到限制。本文主要研究ICP-MS測定純鋅中痕量元 素的干擾情況及校正方法、基體效應(yīng)的影響等,將所建立的方法應(yīng)用于純鋅中痕量元素的分析,取得了滿意的結(jié)果。
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