有機(jī)系列阻垢劑
ATMP具有良好的螯合、低限抑制及晶格畸變作用??勺柚顾谐晒耕}類形成水垢,特別是碳酸鈣垢的形成。ATMP在水中化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,不易水解。在水中濃度較高時(shí),有良好的緩蝕效果。
HEDP是一種有機(jī)酸類阻垢緩蝕劑,能與鐵、銅、鋅等多種金屬離子形成穩(wěn)定的絡(luò)合物,能溶解金屬表面的氧化物。在250℃下仍能起到良好的緩蝕阻垢作用,在高pH下仍很穩(wěn)定,不易水解,一般光熱條件下不易分解。耐酸堿性、耐氯氧化性能較其它有機(jī)酸(鹽)好。
EDTMPS是含氮有機(jī)多元酸,屬陰極型緩蝕劑,與無(wú)機(jī)聚磷酸鹽相比,緩蝕率高3~5倍。能與水混溶,無(wú)1毒無(wú)污染,緩釋阻垢劑生產(chǎn)廠家,化學(xué)穩(wěn)定性及耐溫性好,在100℃下仍有良好的阻垢效果。EDTMPS在水溶液中能離解成8個(gè)正負(fù)離子,因而可以與多個(gè)金屬離子螯合,形成多個(gè)單體結(jié)構(gòu)大分子網(wǎng)狀絡(luò)合物,松散地分散于水中,使鈣垢正常結(jié)晶被破壞。EDTMPS對(duì)硫酸鈣、硫酸1鋇垢的阻垢效果好。
EDTMPA具有很強(qiáng)的螯合金屬離子的能力,與銅離子的絡(luò)合常數(shù)是包括EDTA在內(nèi)的所有螯合劑中較大的。EDTMPA為高純?cè)噭┣覠o(wú)1毒,在電子行業(yè)可作為半導(dǎo)體芯片的清洗劑用于制造集成電路;在醫(yī)1藥行業(yè)作放i射性元素的攜帶劑,用于檢查和治1療疾病;EDTMPA的螯合能力遠(yuǎn)超過(guò)EDTA和DTPA,幾乎在所有使用EDTA作螯合劑的地方都可用EDTMPA替代。
緩蝕阻垢劑的使用主要的是注重效果。為了能夠達(dá)到更好的效果,會(huì)在緩蝕阻垢劑中加入各種添加劑進(jìn)行復(fù)配,復(fù)配得好,緩釋阻垢劑多少錢,可以取得很好的協(xié)同效果。常用的添加劑有:
(1)增溶劑:這類添加劑能促進(jìn)活性物的溶解,使液體產(chǎn)品澄清透明。如尿素、甲1苯或二甲1苯的磺酸鹽、N一甲1基乙1酰胺,可使緩蝕阻垢劑使用性能有較大的提高。
(2)溶劑:如乙醇、乙二醇或異丙1醇等,用于降低液體產(chǎn)品的凍點(diǎn),并可提高產(chǎn)品的潤(rùn)濕等性能。
(3)泡沫穩(wěn)定劑:常用烷1基醇酰胺,它有穩(wěn)泡、增溶、柔軟及增加液體產(chǎn)品粘度的作用。
(4)無(wú)機(jī)鹽:無(wú)機(jī)鹽屬電解質(zhì),電解質(zhì)對(duì)緩蝕阻垢劑的影響遠(yuǎn)大于對(duì)非離子表面活性劑的影響。在緩蝕阻垢劑中加入無(wú)機(jī)鹽,由于與表面活性劑相反離子的作用,使緩蝕阻垢劑的表面活性得到提高,也使臨界膠束濃度下降。同時(shí)也會(huì)影響緩蝕阻垢劑的溶解性能、吸附性能及其他應(yīng)用性能。無(wú)機(jī)鹽對(duì)緩蝕阻垢劑的影響,主要體現(xiàn)在對(duì)疏水基的“鹽析”作用,濁點(diǎn)的降低就是“鹽析”作用的結(jié)果。
緩蝕阻垢劑的使用為了達(dá)到緩蝕阻垢的效果需要緩蝕阻垢劑有一定的穩(wěn)定性,因此在使用緩蝕阻垢劑時(shí)為了達(dá)到效果,還需要加強(qiáng)緩蝕阻垢劑的穩(wěn)定性。
1、珠的電荷對(duì)緩蝕阻垢劑的穩(wěn)定性有明顯的影響。穩(wěn)定的緩蝕阻垢劑,其液珠一般都帶有電荷。由于乳狀液的液珠帶同種電荷,它們之間相互排斥,不易聚結(jié),使穩(wěn)定性增加??梢?jiàn),液珠上吸附的緩蝕阻垢劑離子越多,其帶電量越大,鹽城緩釋阻垢劑,防止液珠聚結(jié)能力也越大,乳狀液體系就越穩(wěn)定。
2、阻垢劑分散介質(zhì)的黏度對(duì)緩蝕阻垢劑的穩(wěn)定性有一定影響。一般,分散介質(zhì)的黏度越大,緩蝕阻垢劑的穩(wěn)定性越高。這是因?yàn)榉稚⒔橘|(zhì)的黏度大,對(duì)液珠的布朗運(yùn)動(dòng)阻礙作用強(qiáng),反滲透阻垢劑廠家,減緩了液珠之間碰撞,使體系保持穩(wěn)定。此外高分子還能形成堅(jiān)固的界面膜,使緩蝕阻垢劑體系更加穩(wěn)定。
3、某些情況下加入固體粉未也能使緩蝕阻垢劑趨于穩(wěn)定。固體粉未處于水、油中或界面上,取決于油、水對(duì)固體粉未的潤(rùn)濕能力,若固體粉未完全為水潤(rùn)濕,又能被油潤(rùn)濕,才會(huì)滯留于水油界面上。
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