二氧化硅膜厚儀的測量原理是?
http://chraco.com/ask/8220985.html
  • 二氧化硅膜厚儀的測量原理主要基于光的干涉現(xiàn)象。當(dāng)單色光垂直照射到二氧化硅膜層表面時,光會在膜層表面和膜層與基底的界面處發(fā)生反射。這兩束反射光在返回的過程中會發(fā)生干涉,即相互疊加,產(chǎn)生干涉條紋。干涉條紋的形成取決于兩束反射光的光程差。當(dāng)光程差是半波長的偶數(shù)倍時,兩束光相位相同,干涉加強,形成亮條紋;而當(dāng)光程差是半波長的奇數(shù)倍時,兩束光相位相反,干涉相消,形成暗條紋。通過觀察和計數(shù)干涉條紋的數(shù)量,結(jié)合已知的入射光波長和二氧化硅的折射率,就可以利用特定的計算公式來確定二氧化硅膜層的厚度。具體來說,膜厚儀會根據(jù)干涉條紋的數(shù)目、入射光的波長和二氧化硅的折射系數(shù)等參數(shù),利用數(shù)學(xué)公式來計算出膜層的厚度。此外,現(xiàn)代二氧化硅膜厚儀可能還采用了其他******技術(shù)來提高測量精度和可靠性,如白光干涉原理等。這種原理通過測量不同波長光在膜層中的干涉情況,可以進一步******確定膜層的厚度。總的來說,二氧化硅膜厚儀通過利用光的干涉現(xiàn)象和相關(guān)的物理參數(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)對二氧化硅膜層厚度的******測量。這種測量方法在半導(dǎo)體工業(yè)、光學(xué)涂層、薄膜技術(shù)等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。

更多內(nèi)容
更多>

精選分享

按字母分類: A| B| C| D| E| F| G| H| I| J| K| L| M| N| O| P| Q| R| S| T| U| V| W| X| Y| Z| 0-9

增值電信業(yè)務(wù)經(jīng)營許可證:粵B2-20191121         |         網(wǎng)站備案編號:粵ICP備10200857號-23         |         高新技術(shù)企業(yè):GR201144200063         |         粵公網(wǎng)安備 44030302000351號

Copyright ? 2006-2025 深圳市天助人和信息技術(shù)有限公司 版權(quán)所有 網(wǎng)站統(tǒng)計