光譜膜厚儀的磁感應(yīng)測量原理
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  • 光譜膜厚儀的磁感應(yīng)測量原理主要基于磁通和磁阻的變化來測定覆層厚度。當(dāng)光譜膜厚儀的測頭接近被測物體時,測頭會發(fā)出磁場,這個磁場會經(jīng)過非鐵磁覆層流入鐵磁基體。在這個過程中,磁通的大小會受到覆層厚度的影響。覆層越厚,磁通越小,因為磁場需要穿透更厚的非鐵磁材料才能到達鐵磁基體。同時,光譜膜厚儀還會測定對應(yīng)的磁阻大小。磁阻是表示磁場在材料中傳播時所遇到的阻礙程度的物理量。覆層越厚,磁阻也會越大,因為磁場在穿透非鐵磁材料時會受到更多的阻礙。因此,通過測量磁通和磁阻的大小,光譜膜厚儀就能夠準(zhǔn)確地確定覆層的厚度。這種測量原理使得光譜膜厚儀能夠廣泛應(yīng)用于各種磁性金屬表面的非磁性涂鍍層厚度的檢測,如鐵鍍鋅、鐵鍍鋁、鐵鍍銀等。同時,它也可以用于檢測非磁性金屬表面的非導(dǎo)電涂層厚度,如陽極氧化膜、油漆、涂料等。總的來說,光譜膜厚儀的磁感應(yīng)測量原理是一種基于磁場特性的非接觸式測量方法,具有測量準(zhǔn)確、操作簡便等優(yōu)點,為各種材料表面涂層厚度的檢測提供了有效的手段。

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